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半导体/电子特气领域纯化设备供应商
HON-N-HW系列氮气纯化器
系列 Series |
杂质 Impurity |
入口 Inlet(ppm) |
出口 Outlet(ppm) |
HON-N-OS/OW/OV |
O2 |
<1000 |
<1 |
H2 |
- |
<1 |
|
CO |
- |
<1 |
|
CO2 |
- |
<1 |
|
NMHC |
- |
<1 |
|
H2O |
<10 |
<1 |
|
PARTICLES |
- |
- |
|
Pressure Drop |
<1bar |
||
Flow |
100~12000Nm3/h |
工艺介绍:
(1)常温加氢脱氧,气体O2与氢气反应转化为H2O。
(2)通过物理和化学吸附进一步脱除O2、CO、H2、CO2、H2O。
(3)吸附反应器吸附饱和后可通氢加热再生,反复使用。
(4)多柱交替吸附、再生,可连续供气。
应用领域:
化工工业气
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