HON-N-OS/OW/OV系列氮气纯化器
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系列 Series |
杂质 Impurity |
入口 Inlet（ppm） |
出口 Outlet（ppb） |
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HON-N-OS/OW/OV |
O2 |
＜3 |
＜1 |
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H2 |
＜1 |
＜1 |
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CO |
＜1 |
＜1 |
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CO2 |
＜1 |
＜1 |
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THC |
＜1 |
＜1 |
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H2O |
＜3 |
＜1 |
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PARTICLES |
-- |
≤10pcs/m3, 0.003μm |
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Pressure Drop |
＜1bar |
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Flow |
10～12000Nm3/h |
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工艺介绍：
（1）高温催化氧化工序，气体中CH4、还原性杂质与O2反应转化为H2O和CO2。
（2）通过物理和化学吸附进一步脱除O2、CO、H2、CO2、H2O。
（3）吸附反应器吸附饱和后可通氢加热再生，反复使用。
（4）多柱交替吸附、再生，可连续供气。
应用领域：
集成电路制造行业
半导体、LED、激光、太阳能光伏行业
光纤行业
高纯气体分析
