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半导体/电子特气领域纯化设备供应商
PIS-ZH-S系列组合烃纯化器
系列 Series |
杂质 Impurity |
入口 Inlet(ppm) |
出口 Outlet(ppm) |
PIS-ZH-S |
O2 |
<200 |
<1 |
H2O |
<200 |
<1 |
|
总S |
<20 |
<1 |
|
Pressure Drop |
<1bar |
||
Flow |
10~300Nm3/h |
工艺介绍:
(1)使用特殊纯化材料,通过吸附方式脱除S杂质。
(2)通过物理和化学吸附方式脱除O2、CO2、H2O等杂质。
(3)吸附反应器吸附饱和后可通氢加热再生,反复使用。
应用领域:
化工行业
高校实验室
产品详情
工艺介绍:
(1)使用特殊纯化材料,通过吸附方式脱除S杂质。
(2)通过物理和化学吸附方式脱除O2、CO2、H2O等杂质。
(3)吸附反应器吸附饱和后可通氢加热再生,反复使用。
(1)使用特殊纯化材料,通过吸附方式脱除S杂质。
(2)通过物理和化学吸附方式脱除O2、CO2、H2O等杂质。
(3)吸附反应器吸附饱和后可通氢加热再生,反复使用。